1) 光谱范围：400-800nm

2) 入射角：65°

3) 光斑大小：200μm

4) 调制技术：PC_RSA调制技术

5) 重复性测量精度：0.01nm（100nm 硅基SiO2样件，30次重复测量）

6) 膜厚测量范围：0.1nm—20μm

7) 单点测量时间：＜5s

8) 光源：高性能进口卤素灯光源（卤素灯寿命：2,000h）

9) 可视化样品显微对准系统

2、 样品台规格：

1) 基板尺寸：最大支持样件尺寸到Ф180mm

2) Z轴位移行程：0-10mm

3) 样件台俯仰角度：> ±2°

3、 测控与分析软件

1) 光谱测量能力：PSI/DELTA椭偏光谱、N/C/S光谱、反射率光谱测量

2) 数据分析能力：具备单层、多层膜厚、光学常数（折射率、消光系数）分析能力

3) 支持常用光学常数模型以及常用振子模型（柯西模型、洛伦兹模型、高斯模型等），并支持图形化多振子混合模型拟合功能

4) 支持多组分薄膜与体材料光学常数、组分比例分析功能； 核心算法包含严格耦合波模型、等效介质模型

      5）支持用户自定义，软件不限制拷贝数量，支持windows10操作系统